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MicroChem 電子束光刻膠 PMMA

詳細摘要： PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類(lèi)的安全溶劑中，曝光會(huì )導致...
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時(shí)間：2024-02-19 在線(xiàn)留言
電子束光刻膠 AR-PC 5090.02, 5091.02（導電膠）

詳細摘要：特點(diǎn)：? 用于消除電子束曝光、SEM成像、FIB等工藝中的荷電效應? 通過(guò)旋涂的方式涂膠，操作簡(jiǎn)單? 涂膠厚度：40nm @ 4000rpm? 電子束曝光后可溶...
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Allresist 紫外光刻膠 AR-N 4400

詳細摘要：特點(diǎn)：? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等? 感光波段：Broadbａnd UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-bea...
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Allresist 光刻膠 AR系列

詳細摘要：刻膠（resist）概述光刻膠是一大類(lèi)具有光敏化學(xué)作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resis...
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時(shí)間：2024-02-19 在線(xiàn)留言

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