廣東瀅源環(huán)保水處理科技有限公司
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更新時(shí)間：2024-01-04 08:00:06瀏覽次數：196次
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水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質(zhì)。 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類(lèi)。鍺和硅是的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線(xiàn)路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗，做過(guò)各行業(yè)的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質(zhì)標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質(zhì)符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗； 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車(chē)、家電表面拋光處理。
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