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聯(lián)系我時(shí),請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)一.設備簡(jiǎn)介 半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備,需要符合特定的用水水質(zhì)標準,半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、中國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)
一.設備簡(jiǎn)介
半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備,需要符合特定的用水水質(zhì)標準,半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、中國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。 榮大環(huán)保在滿(mǎn)足用戶(hù)用水標準的基礎上,在設備系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無(wú)人職守,同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求統一的方法,使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較,具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性。
1. 根據用戶(hù)提供的詳細水質(zhì)報告“量身定制"。 2. 水處理設備技術(shù)條件《JB/T 2932-1999》 3. 反滲透水處理設備標準《CJ/T119-2000》 4. 低壓開(kāi)關(guān)設備和控制設備成套裝置《IEC439-1 》 5. 實(shí)驗室超純水技術(shù)指標標準《GB6682-2008 》 6. 國家電子級超純水規格《GB/T11446.1-1997》
二.設計標準及依據
三.工藝流程
1、 原水-原水加壓泵-多介質(zhì)過(guò)濾器-活性炭過(guò)濾器-軟水器-精密過(guò)濾器-級反滲透-PH調節-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-EDI系統-超純水箱-純水泵-拋光裝置-終端超濾-用水點(diǎn)
四.設計特點(diǎn)
1. 系統采用全自動(dòng)控制(同時(shí)亦可采用手動(dòng)控制),系統運行時(shí)可設定自動(dòng)反洗、再生程序; 2. 各單元接線(xiàn)均在工廠(chǎng)內統一完成,減少安裝調試時(shí)間; 3. 一級反滲透和二級反滲透設有回流管道,反滲透設備設有化學(xué)清洗裝置; 4. 管道一般采用UPVC材質(zhì); 5. 集成控制系統和集成儀表系統等,方便操作管理; 6. RO膜定時(shí)清洗 具有開(kāi)機和定時(shí)清洗RO膜功能,延長(cháng)RO膜使用壽命; 7. 水回收率 通過(guò)特殊的工藝設計,大幅提高了設備的回收率,可達70%; 8. 設備具有耗材更換自動(dòng)提示功能,并且耗材的更換周期取決于水質(zhì)和壓力的變化,而非根據耗材的使用時(shí)間,考慮到了各地水質(zhì)的差異,設計更科學(xué); 9. 自我保護功能 源水缺水自動(dòng)停機保護功能同時(shí)具有水箱缺水自動(dòng)產(chǎn)水、滿(mǎn)水自動(dòng)停機功能。
-----------本司可提供250L/H~1000T/H工業(yè)超純水設備-----------更多參數信息請咨詢(xún)在線(xiàn)客服-----------
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