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更新時(shí)間:2023-12-26 17:34:53瀏覽次數:112次
聯(lián)系我時(shí),請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)金相磨拋機金相樣品的制備是通過(guò)切割機、鑲嵌機和金相磨拋機來(lái)完成的,金相樣品的最終質(zhì)量由金相磨拋機測定
金相磨拋機
金相樣品的制備是通過(guò)切割機、鑲嵌機和金相磨拋機來(lái)完成的,金相樣品的最終質(zhì)量由金相磨拋機測定。拋光是金相樣品制備過(guò)程中的重要部分。拋光是為了去除因磨削樣品而產(chǎn)生的磨損痕跡和變形層,并使之成為鏡面光滑的最終過(guò)程。拋光方法包括機械拋光,電解拋光,化學(xué)拋光和復合拋光。金相磨拋機的使用是目前使用泛的拋光方法。其正確的工藝和操作方法是在獲得高質(zhì)量樣品的條件下以及其他條件(例如保留邊緣和石墨以及夾雜物的保留)的條件下獲得的拋光速率。選擇可靠的金相磨拋機可以提高樣品制備的效率和質(zhì)量,減少樣品的浪費率,從而降低成本,提高經(jīng)濟效益并實(shí)現樣品質(zhì)量的一致高度性。
金相磨拋機運行的關(guān)鍵是設法獲得的拋光速度,以盡快去除拋光引起的損壞層。同時(shí),拋光損傷層將不會(huì )影響最終觀(guān)察到的組織,即不會(huì )造成假組織,這兩個(gè)要求是矛盾的。前者需要使用粗磨料以確保更大的拋光速率以去除拋光損傷層,但拋光損傷層更深;因此,需要使用粗磨料。后者需要使用材料來(lái)使拋光的損傷層變淺,但是拋光速率低。解決這一矛盾的方法是將拋光分為兩個(gè)階段。首先,粗拋光是去除拋光損傷層。此階段應具有的拋光速度。次要考慮的是由粗糙拋光引起的表面損壞,但也應盡可能小。其次,精細拋光(或最終拋光)是為了消除由粗糙拋光引起的表面損傷并使拋光損傷最小化。
金相磨拋機種類(lèi)繁多,主要由電機驅動(dòng)的一組拋光盤(pán)組成。拋光光盤(pán)具有單個(gè)或多個(gè)光盤(pán)。通常使用具有兩個(gè)拋光板的雙頭拋光機。拋光盤(pán)由直徑約200mm的鑄銅或鋁制成。拋光盤(pán)安裝在主軸上(水平和垂直),并在軸承支撐下水平旋轉。其轉速為約600-1600r / min。拋光機配有換檔裝置,可以根據需要將速度調節到200-600 r / min。
近年來(lái),隨著(zhù)科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,中國已生產(chǎn)出多種類(lèi)型的金相磨拋機。其中,有使研磨面以更復雜的軌跡運動(dòng)的金相磨拋機,有以更簡(jiǎn)單的圓形軌跡運動(dòng)的金相磨拋機。根據該結構,一些樣品可以同時(shí)自動(dòng)拋光,也有一些是只能一次拋光一個(gè)樣品。也有專(zhuān)門(mén)設計和制造的金相磨拋機,可以安裝在普通金相磨拋機上的自動(dòng)拋光配件。
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