詳細摘要： 納米尺度3D光學(xué)干涉測量系統VS1800應用光干涉現象，對微細的表面形貌進(jìn)行測量，可實(shí)現高性能薄膜、半導體、汽車(chē)零配件、顯示器等行業(yè)所要求的高精度測量。而且還能...
產(chǎn)品型號：所在地：上海市更新時(shí)間：2023-09-28 在線(xiàn)留言柯岷國際貿易（上海）有限公司
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柯岷國際貿易（上海）有限公司
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詳細摘要： 納米尺度3D光學(xué)干涉測量系統VS1800應用光干涉現象，對微細的表面形貌進(jìn)行測量，可實(shí)現高性能薄膜、半導體、汽車(chē)零配件、顯示器等行業(yè)所要求的高精度測量。而且還能...
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詳細摘要： IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式離子研磨儀器。借此，可以用于適用于各種諸如對樣品內部結構觀(guān)察和各類(lèi)...
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詳細摘要： ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機型。它實(shí)現了超高速截面研磨。高效率截面加工功能，使電鏡截面觀(guān)察時(shí)樣品加工更簡(jiǎn)單。
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詳細摘要： 操作簡(jiǎn)單且直觀(guān)。*:和TM4000Plus搭配應用實(shí)例*:探測器內置型(制造商: 德國B(niǎo)ruker nano GmbH)
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詳細摘要： 圖標按操作流程順序排列，操作簡(jiǎn)便。通過(guò)對應譜圖可簡(jiǎn)單確認元素重疊狀況。通過(guò)TruMap功能分離出譜峰重疊元素并準確顯示(AZtecOne)。
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詳細摘要： 臺式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級。我們以“更高畫(huà)質(zhì)、更易于使用、更易于觀(guān)察"為理念，開(kāi)發(fā)出TM4000系列。在此基礎上，我們又推出功能更為多樣的TM4000...
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詳細摘要： “*的SEM更為緊湊"寬幅僅為45 cm的緊湊型的設計，仍具備4.0 nm的圖像分辨率。全新開(kāi)發(fā)的用戶(hù)界面和電子光學(xué)系統讓您深切體驗其高性能。
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詳細摘要： 集優(yōu)異性能、操作簡(jiǎn)便性、多樣化功能于一身。日立高新推出的掃描電鏡SU3800/SU3900兼具操作性和擴展性，結合眾多的自動(dòng)化功能，可高效發(fā)揮其高性能。SU39...
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詳細摘要： MirrorCLEM是一個(gè)可簡(jiǎn)便觀(guān)察光學(xué)顯微鏡和掃描顯微鏡同一位置的CLEM*1用系統。*1:CLEM (Correlative light and elect...
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詳細摘要： 創(chuàng )新的“EM Wizard"界面更加直觀(guān)，僅需要“點(diǎn)擊"即可得到的圖像。超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)新水平。
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詳細摘要： SU7000不僅可以在低加速電壓下獲得高畫(huà)質(zhì)圖像，而且還可以同時(shí)接收多種信號。此外，它還具備大視野觀(guān)察、In-Situ觀(guān)察等FE-SEM的眾多性能。SU7000...
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詳細摘要： 專(zhuān)門(mén)為電子束敏感樣品和需300萬(wàn)倍穩定觀(guān)察的*半導體器件，高分辨成像所設計。
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