雙光子無(wú)掩膜光刻系統多少錢(qián) 返回列表頁(yè)

Nanoscribe工業(yè)級高速灰度光刻微納打印系統 - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì )展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ，并榮獲創(chuàng )新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學(xué)。該系統的面世代表著(zhù)Nanoscribe已進(jìn)軍現代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統的Quantum X無(wú)論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統技術(shù)要點(diǎn)

這項突破性的技術(shù)將微納增材制造和超高速體素大小調節結合在一起：雙光子灰度光刻(2GL)是一種具有超高速、超精確的可以滿(mǎn)足自由形態(tài)的微加工技術(shù)，同時(shí)又不影響速度和精度。

Quantum X通過(guò)實(shí)時(shí)調制激光功率的技術(shù)在掃描平面上控制體素的大小。通過(guò)這種方式，具有復雜幾何形狀的結構可以被制造出來(lái)，同一物體中跨尺度的細節能夠實(shí)現一步打印。無(wú)論是離散的，還是連續的復雜結構均可以在最大可達6英寸的晶圓片基板上精細打印，而不需要額外的光刻步驟或掩模制造。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統 - 多種*智能化解決方案：
·配備自動(dòng)識別匹配不同物鏡，樣品架以及樹(shù)脂的功能，有助于樣品制備和硬件配置之間的切換，從而加快整個(gè)工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向導功能，以簡(jiǎn)化從初準備到創(chuàng )建打印作業(yè)的整個(gè)流程。

·配備三個(gè)實(shí)時(shí)監控攝像頭可同時(shí)監管打印作業(yè)并支持直觀(guān)操作?，F在用戶(hù)可以直接在內置觸控屏上隨時(shí)檢查作業(yè)狀態(tài)，控制打印過(guò)程并可隨時(shí)顯示和調整打印效果。

技術(shù)參數
產(chǎn)地：德國全進(jìn)口

打印技術(shù)：雙光子灰度光刻 （2GL)

三維橫向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

小表面粗糙度：≤10nm

激光掃描速度：≤250mm/s