灰度光刻微納光刻系統 返回列表頁(yè)

Nanoscribe QX系列雙光子無(wú)掩膜光刻系統實(shí)現最高分辨率
A2PL®技術(shù)3D打印應用于納米級精度對準

全新Quantum X align對準雙光子光刻（A2PL®)系統通過(guò)新添加的高精度對準功能實(shí)現了對高精度結構的精準放置，增強了Nanoscribe已受大眾認可的三維微納加工技術(shù)。這款具備納米級精度對準3D打印功能的最高分辨率打印設備利用A2PL技術(shù)，自由曲面微光學(xué)原件可以以亞微米精度精準對齊打印到光纖或光子芯片光軸上?？蓱糜谏a(chǎn)用于光子集成和封裝或小型化成像光學(xué)器件的高效光學(xué)互連，例如用于微創(chuàng )內窺鏡檢查等。

從對準到打印一步完成

集成光子學(xué)或小型化醫療設備的封裝通常需要各種微光學(xué)元件相互之間進(jìn)行繁瑣的放置和A2PL光學(xué)接口對準流程。Quantum X align簡(jiǎn)化了這一過(guò)程，A2PL技術(shù)實(shí)現了光子芯片或光纖芯上的光學(xué)接口及其空間方向的自動(dòng)檢測，以及自由曲面微光學(xué)或衍射元件可直接打印到位。在實(shí)現更緊湊設備的同時(shí)減少了裝配工差，并大大降低了工藝鏈的復雜性，避免了原本耗資巨大的手動(dòng)對準流程。

對準光纖和光子芯片

當在單劈型光纖或v型槽光纖陣列上打印時(shí)，自動(dòng)3D光纖芯檢測系統和自動(dòng)傾斜校正功能確保了精確對準和低耦合損耗。
Quantum X align還具有共焦成像模塊，用于基底拓撲3D構圖，并可自動(dòng)對準預定義的標記或波導。這使得Quantum X align成為將微光學(xué)元件直接打印到光子芯片表面或刻面上的有效工具，適用于工業(yè)制造中的光子封裝。

精準實(shí)現您的想法

具有納米級精度的3D對準系統，加上強大且用戶(hù)友好的工作流程，為三維微納光學(xué)以外的其他微納加工應用開(kāi)辟了新的機會(huì )。從微流體到復雜的傳感器系統或MEMS: Quantum X align是高精度3D微納加工的有效工具，可在復雜3D基底上以最高精度實(shí)現自動(dòng)定位。

Nanoscribe QX系列雙光子無(wú)掩膜光刻系統技術(shù)參數

• 通過(guò)對準雙光子光刻技術(shù)（A2PL）實(shí)現高性能3D微納加工

• 在光纖上進(jìn)行3D打印: 基于纖芯檢測功能實(shí)現在光纖表面精確對準打印

• 在芯片上進(jìn)行3D打印: 基于3D基底拓撲構圖在芯片表面或刻面上精確對準打印

• 3D對準技術(shù)：自動(dòng)檢測和三個(gè)旋轉軸上襯底傾斜補償

• 高速微納加工智能切片

打印程序和工作流程

• 基于雙光子聚合（2PP）的高精度3D打印

• 采用Dip-in激光光刻（DiLL）進(jìn)行簡(jiǎn)單、可靠的設置

• 100納米特征尺寸控制

• 對準雙光子光刻技術(shù)（A2PL)在預定義位置實(shí)現精準3D打印