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作為同類(lèi)中超前的3D打印系統

Quantum X shape 可打印任何形狀，最小尺寸可達100nm同時(shí)表面粗造度(Ra)小于5nm，打印面積可達25 cm

具備自動(dòng)滴膠模組功能的打印系統，過(guò)夜效率可達200個(gè)特征結構。

通用高性能雙光子聚合材料，適用高分子及玻璃打印。

Reshaping precision.

作為已被工業(yè)界認可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺的二代加工系統，Quantum X shape雙光子無(wú)掩膜光刻系統在3D微納加工領(lǐng)域擁有驚人的高精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴(lài)于其體素調制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實(shí)現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。

Reshaping output.

Quantum X shape雙光子無(wú)掩膜光刻系統不僅是應用于生物醫學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時(shí)也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。

Reshaping usability.

通過(guò)系統集成觸控屏控制打印文件來(lái)大大提高實(shí)用性。通過(guò)系統自帶的nanoConnectX軟件來(lái)進(jìn)行打印文件的遠程監控及多用戶(hù)的使用配置，實(shí)現推動(dòng)工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。

主要特征：

* 納米尺度打?。涸谌我饪臻g方向上的特征尺度控制，可達100nm

* 超快體素控制和100nm處理網(wǎng)格的高速3D微納加工

* 的振鏡軌道控制保證的快速掃描速度下的軌跡準確度

* 自動(dòng)化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位

* 可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇

* 工業(yè)化批量生產(chǎn)： 200個(gè)標準介觀(guān)尺度結構通宵產(chǎn)量

* 保證實(shí)用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能

* 快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡(jiǎn)易明了的工作流程

* 工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)

* 通用及專(zhuān)用的打印材料

* 兼容自主及第三方打印材料