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    天津華翼科技有限公司


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    H5050型高純氣體分析儀（PDHID）

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    更新時(shí)間：2023-11-21 17:19:40瀏覽次數：127次

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    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    H310(A)動(dòng)態(tài)稀釋配氣儀 H310(V)液體動(dòng)態(tài)稀釋配氣儀 H310（STS）動(dòng)態(tài)稀釋配氣系統 H320(A)稀釋通道采樣器 H320(B)稀釋通道采樣器

    詳細介紹

            華翼科技研發(fā)的H5050型脈沖放電氦離子化氣相色譜儀，配備了高靈敏度PDHID檢測器（脈沖放電氦離子化檢測器），對高純氣體中痕量雜質(zhì)的檢測限可達到ppb級，是高純氦、高純氬、高純氮、高純氫等大宗氣體及各類(lèi)電子級氣體分析的。
    適用標準：
    GB/T 28726—2012《氣體分析-氦離子化氣相色譜法》
    <高純氣標準>
    GB/T 8979-2008《高純氮》 GB/T 14599-2008《高純氧》
    GB/T 4844.3-1995 《高純氦》 GB/T 4842-2006《氬》
    GB/T 7445-1995 《純氫、高純氫、超純氫》 GB/T 17873-1999《純氖》
    GB/T 5829-1995《氪氣》 GB/T 5828-1995《氙氣》
    HG/T 3633-1999《純甲烷》 GB 10621-2006《食品添加劑 液體二氧化碳》
    <電子氣標準>
    GB/T 16942-2009《電子工業(yè)用氣體 氫》 GB/T 16943-2009《電子工業(yè)用氣體 氦》
    GB/T 16944-2009《電子工業(yè)用氣體 氮》 GB/T 16945-2009《電子工業(yè)用氣體 氬》
    GB/T 14604-2009《電子工業(yè)用氣體 氧》 GB/T 14600-2009《電子工業(yè)用氣體 氧化氬氮》
    GB/T 15909-2009《電子工業(yè)用氣體 硅烷》 GB/T 21287-2007《電子工業(yè)用氣體 三氟化氮》
    主要特點(diǎn)：
    1. 操作自動(dòng)化程度高，用戶(hù)只需按動(dòng)一次啟動(dòng)鍵，即可完成樣品分析；
    2. 采用了高靈敏度氦離子化檢測器，該檢測器對各痕量組分的檢測靈敏度如下表所示；
    雜質(zhì)種類(lèi) H2 O2 N2 CH4 CO CO2
    檢測限（ppb） 5 10 10 5 25 5
     
    3. 選用經(jīng)特殊處理的色譜柱，消除了色譜柱對O2、CO等痕量組分的非正常吸附現象；
    4. 所采用的進(jìn)樣閥及切換閥均為進(jìn)口帶吹掃功能的產(chǎn)品，在保證儀器耐用性的同時(shí)，消除了空氣滲漏對樣品分析結果的影響；
    5. 所有的接頭及管線(xiàn)均經(jīng)過(guò)拋光處理，且接頭處經(jīng)高精度加工處理，一是為防止氣體泄漏，二是將系統死體積降至，三是減小某些痕量組分的吸附。另外，色譜柱兩端的密封方式為VCR密封，其他接頭均采用鍍金卡套密封，泄漏量比普通卡套形式低一個(gè)數量級；
    6. 采用背壓閥控制的升壓進(jìn)樣方式，能夠消除進(jìn)樣波動(dòng)并獲得相對較高的分析靈敏度；
    7. 所有管線(xiàn)，包括色譜柱管，均采用VICI產(chǎn)品，保證管壁光潔度；
    8. 儀器配備有專(zhuān)用的載氣減壓器、進(jìn)口載氣純化器及采樣器，保證分析結果的準確性；
    9. 可配備我公司的氧氬分離組件，用于分析氬氣之外樣品氣中氧及氬含量，尤其在分析高純氧中雜質(zhì)含量時(shí)，無(wú)需采用脫氧裝置，能夠大大減少維護工作量。
    技術(shù)指標:
    主要參數 參數范圍
    測量范圍 0~1000ppm
    檢出限 <10ppb CH4
    重復性 ≤2%
    輸出 MODBUS
    電源 AC220V/50Hz
    工作環(huán)境 5~35°C，20~90% RH
    氣體接口 1/8”不銹鋼卡套
    重量 75KG
    外形尺寸(長(cháng)×寬×高) 570 mm×552 mm×465 mm
     
     
     
    應用實(shí)例:
    1、高純二氧化碳中雜質(zhì)分析（各組分濃度均近10 ppm）

    2、高純氮氣中雜質(zhì)分析（各組分濃度均近5 ppm）

     
    3、高純氧氣中雜質(zhì)分析（各組分濃度均近10 ppm）

     
    4、高純氬氣中雜質(zhì)分析（各組分濃度均近10 ppm）

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