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    ICP等離子發(fā)射光譜儀SPECTRO GENESIS

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    更新時(shí)間:2023-12-21 18:11:23瀏覽次數:147次

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    SPECTROGENESISICP全譜直讀等離子發(fā)射光譜儀采用ICP激發(fā)源和半導體固態(tài)檢測器的全自動(dòng)發(fā)射光譜同時(shí)檢測的全譜直讀發(fā)射光譜儀,用于對液體樣品中各種元素的定性、半定量和定量分析

    詳細介紹

    SPECTRO GENESIS ICP全譜直讀等離子發(fā)射光譜儀
      采用 ICP激發(fā)源和半導體固態(tài)檢測器的全自動(dòng)發(fā)射光譜同時(shí)檢測的全譜直讀發(fā)射光譜儀,用于對液體樣品中各種元素的定性、半定量和定量分析??梢詸z測72個(gè)元素,檢測范圍PPB-35%
    部分元素檢出限:(單位:PPB)
         Ag:0.5、 Al:0.6、 As:2.5、 Au:4、 B:0.3 、Ba:0.2 、Be:0.5 、Bi:1 
          Ca:0.5、 Cd:0.1、 Ce:5、 Co:0.2、 Cr:0.4 、Cu:0.4 、Fe:0.2、 Ga:2  
          Gd:3、 Ge:2、 Hg:1、 n:5、 Ir:6、 K:1.7、 La:0.5、 Li:0.3、 Mg:0.3 
          Mn:0.05、 Mo:0.5、 Na:0.9、 Ni:0.3、 Os:10、 P:6.5、 Pb:1.1、 Pd1.2  
          Pt:2.2、 Re:4、 Rh:4、 Ru:1.1 、S:6 、Sb:1.5 、Se:2.5 、Si:1.5、 Sn:1.8 
          Te:5、 Ti:0.1、 V:0.35、 Y:0.4、 Zn:0.2、 Zr:0.2

      應用SPECTRO側向等離子體接口(SPI)的側向觀(guān)測等離子體用于高濃度和主成分檢測、高固含量和有機物分析,可以提高線(xiàn)性范圍、準確度和精度。

      利用優(yōu)化的層流、低流速吹掃機理的SPI保證光路中無(wú)氧氣、減少對紫外區波長(cháng)的吸收。這個(gè)技術(shù)可保證易維護的入射光學(xué)組件不受污染,使得175-190nm光譜范圍的譜線(xiàn)的穩定和超常的靈敏度。

      用于工業(yè)分析的工廠(chǎng)預校準分析方法包。下面是可供選擇的方法包:
    工業(yè)廢水(只有基本的方法)、污泥、土壤、油品中磨損金屬/添加劑、礦石、金屬材料

    分光系統:
      恒溫在+30C  0.1C;中空防熱彭脹雙帕邢-龍格羅蘭圓設計;焦距400mm;全息凹面原光柵,刻線(xiàn)密度2400刻線(xiàn)/mm;石英光學(xué)部件;全部是1級波長(cháng)覆蓋;波長(cháng)范圍:175 - 777 nm;入射狹縫:15 μm

    檢測器:
      根據所在波長(cháng)精心選擇并進(jìn)行化設計的15個(gè)線(xiàn)性CCD連續排列在羅蘭圓上;分辨率14pm;與光學(xué)系統一樣恒溫在;動(dòng)態(tài)范圍為108,全波長(cháng)覆蓋,ICAL自動(dòng)標準化

    紫外系統:
      氬氣吹掃系統, 化低流量吹掃(只在分析190nm以下元素時(shí)使用)

    高頻發(fā)生器:免維護型,頻率為27.12MHz,發(fā)生器功率:0.7 to 1.7 kW

    進(jìn)樣系統及炬管單元
    • Lock-in-Place快速換裝設計
    • Gas flows under full computer control氣體流量全部由計算機控制
    o Plasma gas等離子氣  : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
    o Auxiliary gas輔助氣  : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
    o Nebulizer gas霧化氣  : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments 
    • 計算機控制4速、3通道、12滾軸進(jìn)樣蠕動(dòng)泵


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