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    北京思普特科技有限公司
    中級會(huì )員 | 第2年

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    HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀

    參  考  價(jià)面議
    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準

    產(chǎn)品型號

    品       牌

    廠(chǎng)商性質(zhì)其他

    所  在  地北京市

    更新時(shí)間:2024-02-02 17:00:06瀏覽次數:252次

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    核心參數儀器種類(lèi)進(jìn)口輝光放電光譜儀

    核心參數

    • 儀器種類(lèi)進(jìn)口輝光放電光譜儀


    產(chǎn)品介紹

    解密鍍層工藝、解析鍍層結構——Profiler 2



    輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業(yè)有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽(yáng)能電池、鋰電池陰陽(yáng)、光學(xué)玻璃、核材料等。


     


    GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導體和非導體復合鍍層的分析,操作簡(jiǎn)單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。


    · 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。

    ·  采用多項技術(shù),如高動(dòng)態(tài)檢測器(HDD),可測試ppm-99%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

    ·  分析速度快(2-10nm/s)

     


    技術(shù)參數:

    1、射頻發(fā)生器-標準配置、復合D級標準、穩定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩定時(shí)間短,表面信息無(wú)任何失真。

    2、脈沖工作模式既可以分析常規的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

    3、Polyscan多道(同時(shí))光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。

    4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,因而擁有的光效率和靈敏度。

    5、高動(dòng)態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-99%含量的元素。動(dòng)態(tài)范圍為5×1010。

    6、寬大的樣品室方便各類(lèi)樣品的加載。

    7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。

    8、HORIBA的單色儀(選配)可大地提高儀器靈活性,可實(shí)現固定通道外任意一個(gè)元素的同步測試,稱(chēng)為n+1。

    9、適用于ISO14707和16962標準。


    儀器原理:

    輝光放電腔室內充滿(mǎn)低壓氬氣,當施加在放電兩的電壓達到一定值,超過(guò)激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場(chǎng)的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區域內,濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。



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