詳細摘要： Rpo-6型號拋光機主要特點(diǎn)技術(shù)化學(xué)機械拋光（CMP）是用來(lái)對正在加工中的晶片或其他物料進(jìn)行平坦化處理的過(guò)程，而拋光技術(shù)則是利用了物理和化學(xué)的協(xié)同作用對晶片進(jìn)行...
產(chǎn)品型號：所在地：南京市更新時(shí)間：2024-07-17 在線(xiàn)留言艾泰克儀器科技（南京）有限公司
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詳細摘要： Rpo-6型號拋光機主要特點(diǎn)技術(shù)化學(xué)機械拋光（CMP）是用來(lái)對正在加工中的晶片或其他物料進(jìn)行平坦化處理的過(guò)程，而拋光技術(shù)則是利用了物理和化學(xué)的協(xié)同作用對晶片進(jìn)行...
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詳細摘要： 化學(xué)機械拋光機CP-6化學(xué)機械拋光機CP-6概述RTEC化學(xué)機械拋光機CP-6采用專(zhuān)業(yè)的方式研究和表征CMP工藝
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