產(chǎn)品概述
當一束光入射到薄膜表面時(shí),薄膜上表面和下表面的反射光會(huì )發(fā)生干涉,干涉的發(fā)生與薄膜厚度及光學(xué)常數等有關(guān),反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來(lái)測量薄膜厚度。
反射光譜干涉法是一種非接觸式、無(wú)損的、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)。
測量范圍: 1 nm - 1 mm
波長(cháng)范圍: 200 nm -8000 nm
光斑尺寸:2mum -3 um
產(chǎn)品特點(diǎn):
a. 高的測量精度:0.01nm或0.01%
b. 準確度:1nm或0.2%
c. 穩定性:0.02nm或0.02%
d. 強大的軟件材料庫,包含500多種材料的光學(xué)常數
e. 通過(guò)Modbus TCP或OPC協(xié)議,與其他設備聯(lián)用
適用于實(shí)時(shí)在線(xiàn)測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過(guò)500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類(lèi)金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
標準配置中包含:
1. 主機(光譜儀,光源,電線(xiàn))
2. 反射光纖
3. 樣品臺及光纖適配器
4. TFCompanion軟件
5. 校準套裝
6. 測試樣品,200nm晶圓
多種型號可選,每個(gè)型號對應不同的測量范圍:

測量n和k值,其厚度范圍需在25納米和5微米之間
廣泛的應用于各種工業(yè)生產(chǎn)及工藝監控中:
半導體晶圓,薄膜太陽(yáng)能電池,液晶平板,觸摸屛,光學(xué)鍍膜,聚合物薄膜等
半導體制造:· 光刻膠 · 氧化物 · 氮化物
光學(xué)鍍膜:· 硬涂層 · 抗反射涂層 · 濾波片
生物醫學(xué):· 聚對二甲苯 · 生物膜厚度 · 硝化纖維