iedx-150wt金厚測量?jì)xX射線(xiàn)熒光光譜儀

產(chǎn)品概述

產(chǎn)品類(lèi)型：能量色散X熒光光譜分析設備，金厚測量?jì)x

產(chǎn)品名稱(chēng)：鍍層厚度測試儀

型    號：iEDX-150WT

生 產(chǎn) 商：韓國ISP公司

亞太地區戰略合作伙伴：廣州鴻熙電子科技有限公司

產(chǎn)品圖片：

鍍層厚度測試儀  iEDX-150WT  金厚測量?jì)x

金厚測量?jì)xX射線(xiàn)熒光光譜儀

三、產(chǎn)品優(yōu)勢及特征

（一）產(chǎn)品優(yōu)勢

1. 鍍層檢測，多鍍層檢測可達5層，精度及穩定性高（見(jiàn)以下產(chǎn)品特征詳述）。

2. 平臺尺寸：620*525mm，樣品移動(dòng)距離可達220*220*10mm。（固定臺可選）

3. 激光定位和自動(dòng)多點(diǎn)測量功能。

4. 可檢測固體、粉末狀態(tài)材料。

5. 運行及維護成本低、無(wú)易損易耗品，對使用環(huán)境相對要求低。

6. 可進(jìn)行未知標樣掃描、無(wú)標樣定性，半定量分析。

7. 操作簡(jiǎn)單、易學(xué)易懂、**無(wú)損、高品質(zhì)、高性能、高穩定性，快速出檢測結果。

8. 可針對客戶(hù)個(gè)性化要求量身定做輔助分析配置硬件。

9. 軟件*升級。

10. 無(wú)損檢測，一次性購買(mǎi)標樣可**使用。

11. 使用安心無(wú)憂(yōu)，售后服務(wù)響應時(shí)間24H以?xún)?，提?**保姆式服務(wù)。

12. 可以遠程操作，解決客戶(hù)使用中的后顧之憂(yōu)。

13. 可進(jìn)行RoHS檢測（選配功能），測試RoHS指令中的鉛、汞、鎘、鉻、鋇、銻、硒、砷等重金屬，測試無(wú)鹵素指令中的溴、氯等有害元素。亦可對成分進(jìn)行分析。

（二）產(chǎn)品特征

1. 高性能高精度X熒光光譜儀（XRF）

2. 計算機 / MCA(多通道分析儀)

2048通道逐次近似計算法ADC（模擬數字轉換器）。

1. Multi Ray. 運用基本參數（FP）軟件，通過(guò)簡(jiǎn)單的三步進(jìn)行無(wú)標樣標定，使用基礎參數計算方法，對樣品進(jìn)行**的鍍層厚度分析。

可以增加RoHS檢測功能。

1. MTFFP (多層薄膜基本參數法) 模塊進(jìn)行鍍層厚度及全元素分析

勵磁模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A1

吸收模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A2

線(xiàn)性模式進(jìn)行薄鍍層厚度測量

相對（比）模式  無(wú)焦點(diǎn)測量 DIN 50987.3.3/ ISO 3497

多鍍層厚度同時(shí)測量

1. 測試能力（基本配置：PIN探測器+0.3準直器）

當化金厚度在2u〞-5u〞時(shí)，測量時(shí)間為40S

準確度規格 ±5%

**度規格 <5%（COV變動(dòng)率）

當化金厚度 >5u〞時(shí)，測量時(shí)間為40S

準確度規格 ±5%

**度規格<5%（COV變動(dòng)率）

當化銀厚度在5u〞-15u〞時(shí)，測量時(shí)間為40S

準確度規格 ±8%

**度規格 <7%（COV變動(dòng)率）

測化錫時(shí)，測量時(shí)間為40S

準確度規格 ±8%

**度規格 <6% （COV變動(dòng)率）

準確度公式：準確度百分比=（測試10次的平均值-真值）/真值*99%

**度COV公式： （S/10次平均值）*99%

1. Multi-Ray, Smart-Ray. WINDOWS7軟件操作系統

2. 完整的統計函數均值、 標準差、 低/高讀數，趨勢線(xiàn)，Cp 和 Cpk 因素等

3. 金厚測量?jì)xX射線(xiàn)熒光光譜儀自動(dòng)移動(dòng)平臺，用戶(hù)使用預先設定好的程序進(jìn)行自動(dòng)樣品測量。大測量點(diǎn)數量 = 每9999 每個(gè)階段文件。每個(gè)階段的文件有多 25 個(gè)不同應用程序。特殊工具如"線(xiàn)掃描"和"格柵"。每個(gè)階段文件包含統計軟件包。包括自動(dòng)對焦功能、方便加載函數、瞄準樣品和拍攝、激光定位和自動(dòng)多點(diǎn)測量功能。

四、產(chǎn)品配置及技術(shù)指標說(shuō)明

1. X射線(xiàn)管：高穩定性X光光管，使用壽命（工作時(shí)間>18,000小時(shí)）

微焦點(diǎn)X射線(xiàn)管、Mo (鉬) 靶、鈹窗口， 陽(yáng)極焦斑尺寸75um，油絕緣，氣冷式，輻射安全電子管屏蔽。

50kV，1mA。高壓和電流設定為應用程序提供**性能。

1. 探測器：SDD 探測器（可選Si-Pin）

能量分辨率：125±5eV（Si-Pin:159±5eV）

1. 濾光片/可選

初級濾光片：Al濾光片，自動(dòng)切換

7個(gè)準直器：客戶(hù)可選準直器尺寸或定制特殊尺寸準直器。

(0.1/0.2/0.3/0.5/1/4/4mm )

1. 平臺：軟件程序控制步進(jìn)式電機驅動(dòng)X-Y軸移動(dòng)大樣品平臺。
   激光定位、簡(jiǎn)易荷載大負載量為5公斤
   軟件控制程序進(jìn)行持續性自動(dòng)測量

2. 樣品定位：顯示屏上顯示樣品鎖定、簡(jiǎn)易荷載、激光定位及拍照功能

6. 分析譜線(xiàn)：

- 2048通道逐次近似計算法ADC（模擬數字轉換）

- 基點(diǎn)改正（基線(xiàn)本底校正）

- 密度校正

- Multi-Ray軟件包含元素ROI及測量讀數自動(dòng)顯示

7．視頻系統：高分辨率CCD攝像頭、彩色視頻系統

- 觀(guān)察范圍：3mm x 3mm

- 放大倍數：40X

- 照明方法：上照式

- 軟件控制取得高真圖像

8. 計算機、打印機（贈送）

1. 含計算機、顯示器、打印機、鍵盤(pán)、鼠標

2. 含Win 7/Win 10系統。

3. Multi-Ray鍍層分析軟件

注：設備需要配備穩壓器，需另計。

五、軟件說(shuō)明

1．儀器工作原理說(shuō)明

金厚測量?jì)x

iEDX-150WT型號光譜儀軟件算法的主要處理方法

1) Smoothing譜線(xiàn)光滑處理

2) Escape Peak Removal 逃逸峰去除

3) Sum Peak Removal 疊加峰去除

4) Background Removal  背景勾出

5) Blank Removal  空峰位去除

6) Intensity Extraction 強度提取

7) Peak Integration 圖譜整合

8) Peak Overlap Factor Method 波峰疊加因素方法

9) Gaussian Deconvolution 高斯反卷積處理

10) Reference Deconvolution 基準反卷積處理

iEDX-150WT型號光譜儀軟件功能

1) 軟件應用
- 單鍍層測量
- 線(xiàn)性層測量，如：薄膜測量
- 雙鍍層測量
- 針對合金可同時(shí)進(jìn)行鍍層厚度和元素分析
- 三鍍層測量。
- 無(wú)電鍍鎳測量
- 吸收模式的應用 DIN50987.1/ ISO3497-A2

   - 勵磁模式的應用DIN50987.1/ ISO3497-A1
- 基本參數法可以滿(mǎn)足所有應用領(lǐng)域的測量

2) 軟件標定
- 自動(dòng)標定曲線(xiàn)進(jìn)行多層分析

- 使用無(wú)標樣基本參數計算方法

- 使用標樣進(jìn)行多點(diǎn)重復標定

- 標定曲線(xiàn)顯示參數及自動(dòng)調整功能

3) 軟件校正功能：
- 基點(diǎn)校正（基線(xiàn)本底校正）

- 多材料基點(diǎn)校正，如：不銹鋼，黃銅，青銅等

- 密度校正

4) 軟件測量功能：
   - 快速開(kāi)始測量

- 快速測量過(guò)程

- 自動(dòng)測量條件設定（光管電流，濾光片，ROI）

5) 自動(dòng)測量功能（軟件平臺）

- 同模式重復功能（可實(shí)現多點(diǎn)自動(dòng)檢測）

- 確認測量位置 (具有圖形顯示功能)

- 測量開(kāi)始點(diǎn)設定功能（每個(gè)文件中存儲原始數據）

- 測量開(kāi)始點(diǎn)存儲功能、打印數據

- 旋轉校正功能

- TSP應用

- 行掃描及格柵功能

6) 光譜測量功能

- 定性分析功能 （KLM 標記方法）

- 每個(gè)能量/通道元素ROI光標

- 光譜文件下載、刪除、保存、比較功能

- 光譜比較顯示功能：兩級顯示/疊加顯示/減法

- 標度擴充、縮小功能（強度、能量）

7） 數據處理功能

- 監測統計值： 平均值、 標準偏差、 大值。

- 小值、測量范圍，N 編號、 Cp、 Cpk，

- 獨立曲線(xiàn)顯示測量結果。

- 自動(dòng)優(yōu)化曲線(xiàn)數值、數據控件

8）其他功能

- 系統自校正取決于儀器條件和操作環(huán)境

- 獨立操作控制平臺

- 視頻參數調整

- 儀器使用單根USB數據總線(xiàn)與外設連接

- Multi-Ray、Smart-Ray自動(dòng)輸出檢測報告（HTML，Excel）

- 屏幕捕獲顯示監視器、樣本圖片、曲線(xiàn)等.......

- 數據庫檢查程序

- 鍍層厚度測量程序保護。

1. 儀器維修和調整功能

- 自動(dòng)校準功能；

- 優(yōu)化系統取決儀器條件和操作室環(huán)境；

- 自動(dòng)校準過(guò)程中值增加、偏置量、強度、探測器分辨率，迭代法取決于峰位置、 CPS、主X射線(xiàn)強度、輸入電壓、操作環(huán)境。

軟件開(kāi)發(fā)的過(guò)程中我們參考了如下文獻（FP References基本參數法）

(a) “Principles and Practice of X-ray Spectrometric Analysis," 2nd Edition, by E.P. Bertin, Plenum Press, New York, NY (1975).

(b) “Principles of Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis," by R. Tertian and F. Claisse, Heyden & Son Ltd., London, UK (1982).

(c) “Handbook of X-Ray Spectrometry: Methods and Techniques," eds. R.E. van Grieken and A.A. Markowicz, Marcel Dekker, Inc., New York (1993).

(d) “An Analytical Algorithm for Calculation of Spectral Distributions of X-Ray Tubes for Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis," P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 14 (3), 125-135 (1985).

(e) “Addition of M- and L-Series Lines to NIST Algorithm for Calculation of X-Ray Tube Output Spectral Distributions," P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 20, 109-110 (1991).

(f) “Quantification of Continuous and Characteristic Tube Spectra for Fundamental Parameter Analysis," H. Ebel, M.F. Ebel, J. Wernisch, Ch. Poehn and H. Wiederschwinger, X-Ray Spectrometry 18, 89-100 (1989).

(g) “An Algorithm for the Description of White and Characteristic Tube Spectra (11 ≤ Z ≤ 83, 10keV ≤ E0 ≤ 50keV)," H. Ebel, H. Wiederschwinger and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(h) “Spectra of X-Ray Tubes with Transmission Anodes for Fundamental Parameter Analysis," H. Ebel, M.F. Ebel, Ch. Poehn and B. Schoβmann, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(i) “Comparison of Various Descriptions of X-Ray Tube Spectra," B. Schoβmann, H. Wiederschwinger, H. Ebel and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 39, 127-135 (1992).

(j) “Relative Intensities of K, L and M Shell X-ray Lines," T.P. Schreiber & A.M. Wims, X-Ray Spectrometry 11(2), 42 (1982).

(k) “Calculation of X-ray Fluorescence Cross Sections for K and L Shells," M.O. Krause, E.Ricci, C.J. Sparks and C.W. Nestor, Adv. X-ray Analysis, 21, 119 (1978).

(l) X-Ray Data Booklet, Center for X-ray Optics, ed. D. Vaughan, LBL, University of California, Berkeley, CA 94720 (1986).

(m) “Revised Tables of Mass Attenuation Coefficients," Corporation Scientifique Claisse Inc., 7, 1301 (1977).

(n) "Atomic Radiative and Radiationless Yields for K and L shells," M.O. Krause, J. Phys. Chem. Reference Data 8 (2), 307-327 (1979).

(o) “The Electron Microprobe," eds. T.D. McKinley, K.F.J. Heinrich and D.B. Wittry, Wiley, New York (1966).

(p) “Compilation of X-Ray Cross Sections," UCRL-50174 Sec II, Rev. 1, Lawrence Radiation Lab., University of California, Livermore, CA (1969).

(q) “X-ray Interactions: Photoabsorption, Scattering, Transmission, and Reflection at E = 50-30,000 eV, Z = 1-92," B.L. Henke, E.M. Gullikson and J.C. Davis, Atomic Data and Nuclear Tables, 54, 181-342 (1993).

(r) “Reevaluation of X-Ray Atomic Energy Levels," J.A. Bearden and A.F. Burr, Rev. Mod. Phys., 39 (1), 125-142 (1967).

(s) “Fluorescence Yields, ?k (12 ≤ Z ≤ 42) and ?l3 (38 ≤ Z ≤ 79), from a Comparison of Literature and Experiments (SEM)," W. Hanke, J. Wernisch and C. Pohn, X-Ray Spectrometry 14 (1),43 (1985).

(t) “Least-Squares Fits of Fundamental Parameters for Quantitative X-Ray Analysis as a Function of Z (11 ≤ Z ≤ 83) and E (1 ≤ E ≤ 50 keV)," C. Poehn, J. Wernisch and W. Hanke, X-Ray Spectrometry 14 (3),120 (1985).

(u) “Calculation of X-Ray Fluorescence Intensities from Bulk and Multilayer Samples," D.K.G. de Boer, X-Ray Spectrometry 19, 145-154 (1990).

(v) “Theoretical Formulas for Film Thickness Measurement by Means of Fluorescence X-Rays," T. Shiraiwa and N. Fujino, Adv. X-Ray Analysis, 12, 446 (1969).

(w) “X-Ray Fluorescence Analysis of Multiple-Layer Films," M. Mantler, Analytica Chimica Acta, 188, 25-35 (1986).

(x) “General Approach for Quantitative Energy Dispersive X-ray Fluorescence Analysis Based on Fundamental Parameters," F. He and P.J. Van Espen, Anal. Chem., 63, 2237-2244 (1991).

(y) “Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis of Single- and Multi-Layer Thin Films," Thin Solid Films 157, 283 (1988).

(z) “Fundamental-Parameter Method for Quantitative Elemental Analysis with Monochromatic X-Ray Sources," presented at 25th Annual Denver X-ray Conference, Denver, Colorado (1976).

六、產(chǎn)品保修及售后服務(wù)

1. 協(xié)助做好安裝場(chǎng)地、環(huán)境的準備工作、指導并參與設備的安裝、測試、診斷及各項工作。

2. 對客戶(hù)方操作人員進(jìn)行培訓。

3. 安裝、調試、驗收、培訓及技術(shù)服務(wù)均為免費在用戶(hù)方現場(chǎng)對操作人員進(jìn)行培訓。

4. 整機保修一年，終身維修,保修期從設備驗收合格當日起計算。

5. 免費提供軟件升級

6. 使用安心無(wú)憂(yōu)，售后服務(wù)響應時(shí)間24H以?xún)?，提?**保姆式服務(wù)。