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    提供電子束曝光/紫外曝光/深硅刻蝕/等離子刻蝕及測量服務(wù)

    參考價(jià)面議
    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準
    • 公司名稱(chēng)上海續波光電技術(shù)有限公司
    • 品       牌
    • 型       號
    • 所  在  地上海
    • 廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間2022/8/30 10:15:29
    • 訪(fǎng)問(wèn)次數263
    產(chǎn)品標簽:

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      上海續波光電技術(shù)有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事高性能薄膜沉積及處理設備、光電材料及軟件、金剛石合成及應用、激光等離子體仿真和診斷等產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)口的技術(shù)貿易服務(wù)型公司。公司至今已與法國、德國、英國、瑞士、意大利、美國、加拿大、日本、俄羅斯等國家的多家企業(yè)建立了戰略合作關(guān)系,并服務(wù)于國內從事微電子、半導體、光學(xué)、納米技術(shù)等領(lǐng)域的研究所和大學(xué)。公司從事領(lǐng)域及產(chǎn)品主要包括:加速器質(zhì)譜儀:第三代14C加速器質(zhì)譜儀系統(AMS),包括全套可兼容第三代石墨化系統AGE3、氣動(dòng)壓樣裝置PSP、鐵制分配器FED、管密封裝置TSE、氣體電離探測器GID、氣體接口系統GIS、碳酸鹽處理系統CHS、同位素比質(zhì)譜儀IRMS。薄膜制備及處理:磁控濺射儀(magnetron sputtering system)、電子束蒸鍍設備(E-beam Evaporation system)、離子束濺射沉積(IBS system)、化學(xué)束外延鍍膜(CBE/GSMBE)、分子束外延設備(MBE)、離子減薄儀(Ion Milling)、超高真空多功能鍍膜設備、高精密光學(xué)鍍膜設備(Optical Coating system)、刻蝕機(RIE, RIEB)、超導約瑟夫森結制備(Josephson Junction, Qubits);金剛石制備及應用:納米晶金剛石制備設備、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、CVD單晶金剛石合成設備、CVD光學(xué)級金剛石窗口合成、微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)、工具級金剛石涂層制備(tool coating)、金剛石單晶/多晶摻雜(single crystal diamond and doping)、CVD金剛石單晶及其應用、高溫高壓金剛石單晶(HPHT diamond)、金剛石拋光設備(diamond polishing)、激光切割設備(laser cutting)、鉆石凈度及切工評定儀器;高能密度物理:輻射流體力學(xué)模擬、原子光譜分析軟件、多維碰撞輻射軟件、三維熱輻射CAD軟件、狀態(tài)方程和不透明度、原子物理數據庫;微波干涉儀、金剛石靶丸、超高功率輸出窗口;激光器與設計:固體激光器設計軟件(Solid-state Laser)、光纖激光器設計軟件(Fiber laser)、半導體激光器設計軟件(Semiconductor laser)、激光鏡面鍍膜設備(Lasers coating system)、高功率激光輸出窗口(High power output window)、高功率激光熱沉片(Heat Sink)、高功率鉆石激光器(Diamond Laser)、金剛石窗口鍍增透膜(AR coating service);
    質(zhì)譜儀
    我公司能夠提供下列服務(wù):電子束曝光:制備光刻膠圖像作為掩膜,最小可以制備線(xiàn)寬為7nm的圖像
    提供電子束曝光/紫外曝光/深硅刻蝕/等離子刻蝕及測量服務(wù) 產(chǎn)品信息

    我公司能夠提供下列服務(wù):

     

    電子束曝光:制備光刻膠圖像作為掩膜,最小可以制備線(xiàn)寬為7nm的圖像;

    紫外曝光:可以制備不同厚度的光刻膠圖像作為掩膜,最小線(xiàn)條為1um;

     

    牛津深硅刻蝕,深寬比至少可以達到10:1,可以把250um的硅片刻蝕穿透,且側壁陡直光滑、不長(cháng)草;

    德國 ICP等離子刻蝕,可以刻蝕各種金屬、氧化物、半導體等材料;

     

    測試SEM/EDS、臺階儀、橢偏儀器、安捷倫半導體分析儀、AFM、XPS以及劃片機(切割硅片、玻璃、藍寶石等)等

     

    歡迎新老客戶(hù)聯(lián)系咨詢(xún)!

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