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    12英寸大面積專(zhuān)用離子減薄儀(MU700)

    參考價(jià)面議
    具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準
    • 公司名稱(chēng)上海續波光電技術(shù)有限公司
    • 品       牌
    • 型       號
    • 所  在  地上海
    • 廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間2022/8/30 10:17:02
    • 訪(fǎng)問(wèn)次數291
    產(chǎn)品標簽:

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      上海續波光電技術(shù)有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事高性能薄膜沉積及處理設備、光電材料及軟件、金剛石合成及應用、激光等離子體仿真和診斷等產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)口的技術(shù)貿易服務(wù)型公司。公司至今已與法國、德國、英國、瑞士、意大利、美國、加拿大、日本、俄羅斯等國家的多家企業(yè)建立了戰略合作關(guān)系,并服務(wù)于國內從事微電子、半導體、光學(xué)、納米技術(shù)等領(lǐng)域的研究所和大學(xué)。公司從事領(lǐng)域及產(chǎn)品主要包括:加速器質(zhì)譜儀:第三代14C加速器質(zhì)譜儀系統(AMS),包括全套可兼容第三代石墨化系統AGE3、氣動(dòng)壓樣裝置PSP、鐵制分配器FED、管密封裝置TSE、氣體電離探測器GID、氣體接口系統GIS、碳酸鹽處理系統CHS、同位素比質(zhì)譜儀IRMS。薄膜制備及處理:磁控濺射儀(magnetron sputtering system)、電子束蒸鍍設備(E-beam Evaporation system)、離子束濺射沉積(IBS system)、化學(xué)束外延鍍膜(CBE/GSMBE)、分子束外延設備(MBE)、離子減薄儀(Ion Milling)、超高真空多功能鍍膜設備、高精密光學(xué)鍍膜設備(Optical Coating system)、刻蝕機(RIE, RIEB)、超導約瑟夫森結制備(Josephson Junction, Qubits);金剛石制備及應用:納米晶金剛石制備設備、熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)、CVD單晶金剛石合成設備、CVD光學(xué)級金剛石窗口合成、微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)、工具級金剛石涂層制備(tool coating)、金剛石單晶/多晶摻雜(single crystal diamond and doping)、CVD金剛石單晶及其應用、高溫高壓金剛石單晶(HPHT diamond)、金剛石拋光設備(diamond polishing)、激光切割設備(laser cutting)、鉆石凈度及切工評定儀器;高能密度物理:輻射流體力學(xué)模擬、原子光譜分析軟件、多維碰撞輻射軟件、三維熱輻射CAD軟件、狀態(tài)方程和不透明度、原子物理數據庫;微波干涉儀、金剛石靶丸、超高功率輸出窗口;激光器與設計:固體激光器設計軟件(Solid-state Laser)、光纖激光器設計軟件(Fiber laser)、半導體激光器設計軟件(Semiconductor laser)、激光鏡面鍍膜設備(Lasers coating system)、高功率激光輸出窗口(High power output window)、高功率激光熱沉片(Heat Sink)、高功率鉆石激光器(Diamond Laser)、金剛石窗口鍍增透膜(AR coating service);
    質(zhì)譜儀
    關(guān)鍵詞:RIE、RIBE、反應離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、過(guò)渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型號:MU700S;產(chǎn)地:歐洲
    12英寸大面積專(zhuān)用離子減薄儀(MU700) 產(chǎn)品信息

    關(guān)鍵詞:RIE、RIBE、反應離子束刻蝕、CAIEB、化學(xué)輔助離子束刻蝕、

                    過(guò)渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT

     

    型號:MU700S;    產(chǎn)地:歐洲;  

    應用:過(guò)渡金屬, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe ;

     

    代表性用戶(hù):法國科學(xué)研究中心(CNRS)、意法半導體(ST)

     

    RFICP源:束徑可達 220 mm

     

    采用分子泵或低溫泵+干泵組合真空系統

     

    均勻性:+/- 5%  on 290 mm襯底

     

    水冷樣品臺,襯底尺寸可達直徑300mm

     

    樣品臺可以?xún)A斜和旋轉

     

    配套SIMS用于刻蝕監控

     

    配置Load Lock

     

    控制系統:全自動(dòng)控制,半自動(dòng)和手動(dòng)模式可用
                  支持多級用戶(hù)權限設置和管理
                  支持設備遠程操作、監控、診斷和維護
                  系統自動(dòng)報警及定位故障

     

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