工藝流程二：反滲透+EDI設備
1.電子工業(yè)超純水概述
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質(zhì)。
2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種：
1、采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設備→混床（復床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3、采用反滲透設備與電去離子（EDI）設備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3.電子工業(yè)超純水設備特點(diǎn)
電子工業(yè)超純水設備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求相統一的方法，使該設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性。
4.電子工業(yè)超純水的應用領(lǐng)域
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水；
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水；
3、實(shí)驗室和中試車(chē)間用超純水；
4、汽車(chē)、家電表面拋光處理；
5、光電子產(chǎn)品；
6、其他高科技精微產(chǎn)品；
