詳細摘要: ZHWC系列無(wú)磁隔振光學(xué)平臺(分為無(wú)磁氣浮隔振和無(wú)磁阻尼隔振)產(chǎn)品特點(diǎn):■采用優(yōu)質(zhì)無(wú)磁304、316不銹鋼,平臺臺面及支撐整體均不含磁性
產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2023-08-25 在線(xiàn)留言
武漢中弘精密機械有限公司
詳細摘要: ZHWC系列無(wú)磁隔振光學(xué)平臺(分為無(wú)磁氣浮隔振和無(wú)磁阻尼隔振)產(chǎn)品特點(diǎn):■采用優(yōu)質(zhì)無(wú)磁304、316不銹鋼,平臺臺面及支撐整體均不含磁性
產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2023-08-25 在線(xiàn)留言詳細摘要: ZHQF-06-06600mm*600mm精密級氣浮光學(xué)平臺產(chǎn)品特點(diǎn):■中弘精密研發(fā)生產(chǎn)的精密氣浮光學(xué)平臺,能夠滿(mǎn)足精密負載對振動(dòng)隔離需求,且面向大多數設備儀器...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2023-08-24 在線(xiàn)留言詳細摘要: ZHDF獨立支撐氣浮隔振光學(xué)平臺應用領(lǐng)域:適合于高倍數電子顯微鏡、掃描探針顯微鏡、激光干涉儀、激光共聚焦顯微鏡等領(lǐng)域應用產(chǎn)品特點(diǎn):■中弘精密依托于光電子產(chǎn)業(yè)科研...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2023-08-23 在線(xiàn)留言詳細摘要: ZHQF-K科研氣浮隔振光學(xué)平臺應用領(lǐng)域:適合于高倍數電子顯微鏡、掃描探針顯微鏡、激光干涉儀、激光共聚焦顯微鏡等領(lǐng)域應用產(chǎn)品特點(diǎn):■中弘精密依托于光電子產(chǎn)業(yè)科研...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2023-08-22 在線(xiàn)留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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