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    柯岷國際貿易(上海)有限公司


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    離子研磨儀 IM4000II

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    品       牌

    廠(chǎng)商性質(zhì)其他

    所  在  地上海市

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    更新時(shí)間:2023-09-28 13:44:15瀏覽次數:237次

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    商鋪產(chǎn)品:32條

    所在地區:上海上海市

    聯(lián)系人:宋先生

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    離子研磨儀 IM4000II

    詳細介紹

    高效率的截面研磨

    IM4000II配備截面研磨能力達到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質(zhì)材料,也可以高效地制備出截面樣品。

    • *1

    • 在加速電壓6 kV下,將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時(shí)的深度

    微信圖片_20230203220403.png    樣品:Si片(2 mm厚)
                                                                                  加速電壓:6.0 kV
                                                                                  擺動(dòng)角度:±30°
                                                                                  研磨時(shí)間:1小時(shí)

    截面研磨時(shí)如果擺動(dòng)的角度發(fā)生變化,加工的寬度和深度也會(huì )發(fā)生變化。下圖為Si片在擺動(dòng)角度為±15°下進(jìn)行截面研磨后的結果。除擺動(dòng)角度以外,其他條件與上述加工條件一致。通過(guò)與上面結果進(jìn)行對比后,可發(fā)現加工的深度變深。
    對于觀(guān)察目標位于深處的樣品來(lái)說(shuō),能夠對樣品進(jìn)行更快速的截面研磨。

    微信圖片_20230203220407.png樣品:Si片(2 mm厚)
                                                                        加速電壓:6.0 kV
                                                                        擺動(dòng)角度:±15°
                                                                        研磨時(shí)間:1小時(shí)

    復合型研磨儀

    截面研磨

    • 即使是由不同硬度以及研磨速度材質(zhì)所構成的復合材料,也可以通過(guò)IM4000Ⅱ制備出平滑的研磨面

    • 優(yōu)化加工條件,降低因離子束所致樣品的損傷

    • 可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

    截面研磨的主要用途

    • 金屬以及復合材料、高分子材料等樣品的截面制備

    • 含有裂縫和空隙等特定位置的樣品截面制備

    • 多層樣品的截面制備以及對樣品EBSD分析的前處理






    平面研磨

    • 直徑約為5mm范圍內的均勻加工

    • 應用領(lǐng)域廣泛

    • 可裝載直徑50 mm × 高度25 mm的樣品

    • 可選擇旋轉和擺動(dòng)(±60度,±90度的擺動(dòng))2種加工方法

    平面研磨的主要用途

    • 去除機械研磨中難以消除的細小劃痕和形變

    • 去除樣品表層部分

    • 消除因FIB加工所致的損傷層

    微信圖片_20230203220417.jpg

    微信圖片_20230203220414.jpg

    • *1 將Si片從遮擋板邊緣突出100 µm并加工1小時(shí)的深度。

    選配項

    微信圖片_20230203223454.png

    • *2 需與主機同時(shí)訂購。冷卻溫度控制功能在使用時(shí),部分功能可能使用有限。


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