廣州納儀科技有限公司
員1.png)
廣州納儀科技有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)其他
所 在 地廣州市
紡織服裝機械網(wǎng)采購部電話(huà)：0571-88918531
QQ:2568841715
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2024-09-05 09:32:36瀏覽次數：136次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來(lái)自 紡織服裝機械網(wǎng)“世界上沒(méi)有一個(gè)ALD公司能擁有像Picosun那樣的資質(zhì)。" Picosun的研究歷史和背景始于原子層沉積領(lǐng)域研究起步時(shí)期。ALD原子層沉積系統是由Dr. Tuomo Suntola 于1974年在芬蘭發(fā)明的，他現在是Picosun董事會(huì )成員之一。Picosun的創(chuàng )建者和技術(shù)執行官(CTO)Mr. Sven Lindfors早在1975年已經(jīng)創(chuàng )造出的ALD系統，他被譽(yù)為“世界上經(jīng)驗豐富的ALD反應器設計師"。Picosun是ALD。及國內。如今Picosun持續致力于A(yíng)LD系統研究已經(jīng)長(cháng)達50多年，研究團隊加在一起具有300多年的最直接的原子層沉積專(zhuān)項技術(shù)研究經(jīng)驗。Picosun建立于1997年，核心團隊成員都是由具有學(xué)術(shù)專(zhuān)業(yè)水平的科研人員組成，都是ALD方面的專(zhuān)家。Picosun團隊，被廣泛譽(yù)為“的ALD團隊"，已經(jīng)對ALD貢獻了100多項，我們與的研究機構和主流的工業(yè)單位密切合作，鞏固了我們在A(yíng)LD研究的前沿位置。
一、公司介紹
1）Picosun – ALD者
“世界上沒(méi)有一個(gè)ALD公司能擁有像Picosun那樣的資質(zhì)。" Picosun的研究歷史和背景始于原子層沉積領(lǐng)域研究起步時(shí)期。ALD原子層沉積系統是由Dr. Tuomo Suntola 于1974年在芬蘭發(fā)明的，他現在是Picosun董事會(huì )成員之一。Picosun的創(chuàng )建者和技術(shù)執行官(CTO)Mr. Sven Lindfors早在1975年已經(jīng)創(chuàng )造出的ALD系統，他被譽(yù)為“世界上經(jīng)驗豐富的ALD反應器設計師"。
Picosun是ALD。及國內。
如今Picosun持續致力于A(yíng)LD系統研究已經(jīng)長(cháng)達50多年，研究團隊加在一起具有300多年的最直接的原子層沉積專(zhuān)項技術(shù)研究經(jīng)驗。Picosun建立于1997年，核心團隊成員都是由具有學(xué)術(shù)專(zhuān)業(yè)水平的科研人員組成，都是ALD方面的專(zhuān)家。Picosun團隊，被廣泛譽(yù)為“的ALD團隊"，已經(jīng)對ALD貢獻了100多項，我們與的研究機構和主流的工業(yè)單位密切合作，鞏固了我們在A(yíng)LD研究的前沿位置。
2）PICOSUN公司的承諾
芬蘭PICOSUN公司ALD系統的設計保證了能夠對各種工藝參數的嚴格控制，確保得到極度均勻、高重復性的高質(zhì)量薄膜。設備容易操作、高度可靠。
二、R-200 Adv 原子層沉積系統技術(shù)指標
1. 腔體：采用雙層腔體結構。
1.1 真空腔體：
（1）加熱溫度≥650℃；
（2）真空腔體無(wú)水冷系統；
（3）真空腔體所有接口采用KF法蘭和Viton密封圈密封，腔體漏率低于2x10-8mbar.l/s。
1.2 反應腔：
（1）反應腔可沉積200 mm基片1個(gè), 兼容小基片；
（2）反應腔上配備6個(gè)獨立的前軀體源管路接口，與前軀體源管路連接，前驅體蒸汽相對襯底流動(dòng)模式為噴灑淋浴模式；
（3）反應腔沉積溫度，熱工藝沉積溫度600 °C。
（4）基片加載采用氣動(dòng)基片加載/卸載系統，由電腦自動(dòng)控制；
（5）配備顆粒捕捉器及反應殘余物燃燒器。
2. 前軀體輸運系統：
（1）配備6路獨立的前軀體源管路。
（2）配置的質(zhì)量流量、壓力傳感器、脈沖閥，采用VCR金屬密封方式密封。
（3）每個(gè)液態(tài)源單獨配備帕爾帖（Peltier）溫度控制器1套。
（4）加熱源具用boosting功能，加熱溫度不低于300℃。
3. 等離子模塊：
（1）配備遠程等離子模塊，包括匹配網(wǎng)絡(luò )、等離子體發(fā)生器、包括4路等離子氣路；
（2）每條管路單獨配置的質(zhì)量流量、壓力傳感器、脈沖閥；
（3）等離子ALD和熱ALD共用一個(gè)腔，等離子體發(fā)生器與基底必須保持足夠距離,功率：100-3000W可調。
4. 真空系統：配備耐腐蝕真空干泵；真空泵抽速≥400m3/h。
5. 預真空系統：預真空腔及其配備單獨的干泵，可以傳送200 mm (8英寸) 基片,。
6. 控制系統：
(1) 觸摸屏PC用于A(yíng)LD反應器的操作，的控制軟件和電子電路；人性化的HMI界面，系統可用于處方recipe 模式或手動(dòng)模式；
(2) 操作界面友好，具備程序儲存、讀取功能，能夠輸出實(shí)驗數據，顯示24個(gè)小時(shí)內設備系統各部分參數的時(shí)間趨勢圖，包括各部分質(zhì)量流量、溫度、壓強的時(shí)間趨勢圖，用于監測設備穩定性；
(3) 沉積過(guò)程中監測顯示每個(gè)源管路的脈沖壓強，顯示脈沖壓強與時(shí)間關(guān)系圖，用于監測脈沖穩定性；
歡迎垂詢(xún)，電話(huà)：,
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
紡織服裝機械網(wǎng) 設計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
