SAL-3000Plus ALD原子層沉積系統
SAL3000Plus是一款可拓展型的ALD原子層沉積系統，可通過(guò)連接STR2000轉移單元，與退火設備SAN2000Plus，鍍膜設備，SVE2000Plus蒸鍍設備，SSP2000Plus/SSP3000Plus磁控濺射設備搭配；
SAL-3000Plus SAL3000-Plus+STR2000+SAN2000Plus
性能及特點(diǎn)：
| 1.鍍膜質(zhì)量高 | |
| · 膜厚均勻性≤3% @ 100mm | |
| · 對于內孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性； | |
| · 膜厚可準確控制達一個(gè)原子層； | |
| · 大面積制程可達到無(wú)孔洞薄膜（Pin Hole free） | |
| · 的重復性及穩定性 | |
| · 材料缺陷密度低 | |
| · 可成長(cháng)非晶型或結晶薄膜（選擇溫度） | |
| 2.兩種成膜方向可選 | |
| · 可選擇將薄膜沉積在基底上表面和基底下表面，薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著(zhù)基底的風(fēng)險。 | |
| 3. 可通過(guò)STR2000與其它Plus系列設備串聯(lián) | |
| 4.最多可搭載6路前驅體 | |
| 5.優(yōu)異的真空性能：真空度≤5Pa | |
| 6.圖形用戶(hù)界面，觸控操作，簡(jiǎn)單易用，可存儲30多種鍍膜方案 | |
| 7.與SAL3000相比，寬度減少了40％ | |
| 6. 可搭配多種配件： | |
| 干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅體加熱器等，退火設備等； |
