SAL-1000 ALD原子層沉積系統
SAL-1000Series是由日本AGUS生產(chǎn)的桌面型ALD原子層沉積設備，可搭載2路前驅體。適用于4英寸（φ 100mm）基片的沉積，并可搭載粉末樣品架和手套箱。
SAL-1000Sseries原子層沉積設備具備如下特點(diǎn)：
1. 良好的成膜性能，膜厚均勻性高，≤3%
| ·對于內孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性； · 膜厚可精準控制達一個(gè)原子層； · 大面積制程可達到無(wú)孔洞薄膜（Pin Hole free） · 的重復性及穩定性 · 材料缺陷密度低 · 可成長(cháng)非晶型或結晶薄膜（選擇溫度） |
2. 優(yōu)異的真空性能，真空度≤5Pa
3. 觸控操作，簡(jiǎn)單易用；
·觸摸屏使用戶(hù)可以輕松設置配方或沉積過(guò)程，并檢查每個(gè)驅動(dòng)系統的運動(dòng)。
| ·可進(jìn)行自動(dòng)沉積，并在沉積完成后自動(dòng)完成N2排放。 |
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| ·手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成。 |
4. 配件豐富，可滿(mǎn)足多種試驗需求：
基底旋轉架、粉末樣品配件、手套箱、臭氧發(fā)生器、尾氣處理設備、200℃前驅體的加熱器，干式真空泵等；
粉末沉積配件：傾斜框架可調整的角度為0 ~ 45°，更便于粉末成膜。單次可對5cm3的粉體進(jìn)行表面沉積；
