SAL-3000 ALD原子層沉積系統
SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備，該設備最多可搭載6路前驅體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外，還可進(jìn)一步通過(guò)改變鍍膜方向，來(lái)進(jìn)一步提高鍍膜的質(zhì)量。并且該設備還可搭載互鎖腔體（Load lock Chamber）和手套箱來(lái)沉積需要氣氛保護的樣品。
SAL-3000 SAL3000+Load Lock Chamber
性能及特點(diǎn)：
| 1.鍍膜質(zhì)量高 | |
| ·膜厚均勻性≤3% @ 100mm | |
| ·對于內孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性； | |
| ·膜厚可準確控制達一個(gè)原子層； | |
| ·大面積制程可達到無(wú)孔洞薄膜（Pin Hole free） | |
| ·的重復性及穩定性 | |
| ·材料缺陷密度低 | |
| ·可成長(cháng)非晶型或結晶薄膜（選擇溫度） | |
| 2.兩種成膜方向可選 | |
| ·可選擇將薄膜沉積在基底上表面（SAL-3000D）和基底下表面（SAL-3000U），薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著(zhù)基底的風(fēng)險。 | |
| 3. 可搭載互鎖腔體（Load lock chamber）和手套箱 | |
| 4.圖形用戶(hù)界面，觸控操作，簡(jiǎn)單易用，可存儲30多種鍍膜方案； | |
| 5.主機與控制機箱一體化設計； | |
| 6. 可搭配多種配件： | |
| 干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅體加熱器等，退火設備等； |
