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日立磁控濺射器MC1000

詳細摘要：日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分...
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離子研磨系統ArBlade5000

詳細摘要：日立ArBlade 5000離子研磨系統能夠實(shí)現高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品?！　‰x子研磨系統使用通過(guò)在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來(lái)拋光樣品的表面。樣品預...
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