RTP-6經(jīng)濟型快速退火爐
RTP-6升溫速率可達80℃/s。
RTP-6采用拋物線(xiàn)形的黃金反射面，可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統可進(jìn)行快速的熱處理，適合熱處理工藝的研究與開(kāi)發(fā)?？捎糜诎雽w工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過(guò)程退火。
應用：
| 1. 離子注入后的活化退火 | |
| 2. 沉積氧化膜的退火 | |
| 3. 歐姆電極合金化 | |
| 4. PZT，SBT和其它鐵電薄膜的結晶退火 | |
| 5. 硅化物及自對準硅化物的生成 | |
| 6. 發(fā)光元件，半導體激光基板的熱處理 | |
| 7. 超淺結的生成 | |
| 8. 鐵電電容器沉積 | |
| 9. 柵氧化膜的生成 |
| 特點(diǎn)： | |
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組成：
| 1. 紅外金面反射爐 | |
| 2. 加熱腔 | |
| 3. 可編程溫控器 | |
| 4. 9個(gè)獨立的加熱區 | |
| 5. 跨度變換單元 | |
| 6. 氣體管路系統 | |
| 7. 熱氣排出系統 | |
| 8. 爐體框架，開(kāi)關(guān)板 | |
| 9. 高溫計（可選） | |
| 10. 水冷機（可選） | |
| 11. 真空泵（可選） |
參數：
