詳細摘要： NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統概述：NANO-MASTER PECVD系統能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達12...
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詳細摘要： NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統概述：NANO-MASTER PECVD系統能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達12...
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詳細摘要： Plasma Cleaner等離子清洗機NPC-4000（M）等離子清洗機概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統是專(zhuān)門(mén)設計用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶...
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詳細摘要： RIE反應離子刻蝕機NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應離子刻蝕機概述：獨立式RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及1...
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詳細摘要： PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫(xiě)設備，它具有每毫米超過(guò)1200條線(xiàn)的輸出能力，特別適合用戶(hù)在光敏層上自由地創(chuàng )造微結...
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詳細摘要： PicoMaster 200無(wú)掩模激光直寫(xiě)光刻機●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界實(shí)力的成套全息設...
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詳細摘要： Dymax 5000-EC 系列紫外光固化面光源適用于固化光強需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
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詳細摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號：NXQ800-6產(chǎn)地：美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q8000系列光刻機是以自動(dòng)系統為主。該系統*的操作性，...
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詳細摘要： 品牌：恩科優(yōu)（N&Q）型號：NXQ400-8產(chǎn)地：美國恩科優(yōu)光刻機分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機是以半自動(dòng)系統為主。該系統*的操作性...
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詳細摘要： 真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統，可用于開(kāi)發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝?？梢源钆浞肿颖脤?shí)現高真空下熱處理工藝。溫度1500 ℃，升...
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詳細摘要： P200L半自動(dòng)探針臺?200毫米半自動(dòng)晶圓探針臺 。
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詳細摘要： 這款蝕刻和清潔系統專(zhuān)為滿(mǎn)足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。
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詳細摘要： 紫外臭氧清洗工作原理：清洗設備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線(xiàn)。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機污染物分子在吸收254nm波長(cháng)紫外線(xiàn)后被激發(fā)或...
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詳細摘要： 原子層沉積（Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但...
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詳細摘要： 適用于3英寸晶圓的劃片劃片機 100是一款的設備，設計用于劃分精密模具，例如GaAs和硅芯片。劃片機 100非常靈活，使用劃線(xiàn)和斷裂順序，使成品模具保持清潔，不...
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詳細摘要： M-HP 200熱板用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑為8英寸的晶圓片或6英寸 x6英寸的襯底。內置模塊可輕松用于濕式工作臺。工藝參數（溫度，加熱...
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詳細摘要： 勻膠顯影機(英文名：Developing) 產(chǎn)地：美國一、產(chǎn)品概述：650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。
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詳細摘要： Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領(lǐng)域當之無(wú)愧的主導者，...
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詳細摘要： Benchtop Plasma Cleaner小型等離子清洗系統PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領(lǐng)域當之無(wú)愧的者，我們...
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詳細摘要： 涂是一種廣泛使用的多功能技術(shù)，用于將材料沉積到基材上，從而獲得精確可控的薄膜厚度。該款勻膠旋涂?jì)x價(jià)格實(shí)惠，操作簡(jiǎn)單，結構小巧緊湊，占地空間小，為實(shí)驗室提供了理想...
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詳細摘要： 勻膠機產(chǎn)品特點(diǎn):1、穩定的轉速和快 速啟動(dòng)，可保證膠厚度的一 致性和均勻性；2、轉速在12000轉/分范圍內穩定，美國國家標準 技 術(shù)研究院（NIST）認 證過(guò)...
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時(shí)間：2024-02-19 在線(xiàn)留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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