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ALD原子層沉積設備

詳細摘要：原子層沉積技術(shù)以精準控制薄層厚度，均勻性，保型性而著(zhù)稱(chēng)，廣泛應用于集成電路（IC）行業(yè)，它使得電子器件持續微型化成為可能，逐漸成為了微電子器件制造，半導體領(lǐng)域的...
產(chǎn)品型號：所在地：徐州市更新時(shí)間：2023-10-09 在線(xiàn)留言
PS-200單靶磁控濺射鍍膜機

詳細摘要： PS-200單靶磁控濺射鍍膜機
產(chǎn)品型號：所在地：徐州市更新時(shí)間：2023-10-09 在線(xiàn)留言
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機

詳細摘要： CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室（500H430mm），永磁圓形平面靶，真空系統，旋轉加熱基片臺，氣路系統，電氣控制及報警保護系統等組成。
產(chǎn)品型號：所在地：徐州市更新時(shí)間：2023-10-09 在線(xiàn)留言

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