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    磐石創(chuàng )新（江蘇）電子裝備有限公司


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    PS-200單靶磁控濺射鍍膜機

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    產(chǎn)品型號

    品       牌

    廠(chǎng)商性質(zhì)其他

    所  在  地徐州市

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    商鋪產(chǎn)品：10條

    所在地區：江蘇徐州市

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    PS-200單靶磁控濺射鍍膜機

    詳細介紹

    設備簡(jiǎn)介

    PS-200單靶磁控濺射鍍膜機主要由真空室、磁控靶、旋轉基片架、真空系統、機架、電器控制等幾大部分組成?？捎脕?lái)制備導電膜、金屬膜、介質(zhì)膜、半導體膜、絕緣膜、多層膜等。設備結構緊湊，占地面積小適合高校實(shí)驗室及科研院所。

    環(huán)境要求
    供電：AC220V，功率≥20KVA
    獨立地線(xiàn)：＜3Ω，從設備到地線(xiàn)連接建議采用≥10mm2 的扁平銅線(xiàn)
    供水：流量≥10L/min 水溫0～25℃
    室溫：＜30℃
    相對濕度：＜75%
    高純氬氣
    室內無(wú)腐蝕易燃、易爆、有毒氣體，無(wú)大的塵埃。

    技術(shù)參數

    真空室尺寸（內徑X高） Ф200×200mm
    極限真空 2X10-4 Pa
    恢復工作真空 從大氣抽至8X10-4 Pa,≤40min
    工作真空 ≤6X10-1Pa
    升壓率 ≤8X10-1Pa/h
    基片架旋轉速度 2～20rpm可調
    靶-片距 80～120mm
    真空系統 分子泵：FF63/80 型 62 L/S
    機械泵：TRP-12型 3L/S
    總功率 20KVA
    設備占地尺寸 800X800

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