詳細摘要: SIC單晶爐是針對碳化硅單晶生長(cháng)專(zhuān)用工藝設備,也可用于氮化鋁的單晶生長(cháng)工藝。
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詳細摘要: SIC單晶爐是針對碳化硅單晶生長(cháng)專(zhuān)用工藝設備,也可用于氮化鋁的單晶生長(cháng)工藝。
產(chǎn)品型號:所在地:徐州市更新時(shí)間:2023-10-09 在線(xiàn)留言詳細摘要: 高溫退火爐主要引用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、退火、新材料開(kāi)發(fā)、有機物質(zhì)灰化等方面的研究,也適用于、電子、醫藥、特種材料等領(lǐng)域的生產(chǎn)和實(shí)驗。
產(chǎn)品型號:所在地:徐州市更新時(shí)間:2023-10-09 在線(xiàn)留言詳細摘要: 原子層沉積技術(shù)以精準控制薄層厚度,均勻性,保型性而著(zhù)稱(chēng),廣泛應用于集成電路(IC)行業(yè),它使得電子器件持續微型化成為可能,逐漸成為了微電子器件制造,半導體領(lǐng)域的...
產(chǎn)品型號:所在地:徐州市更新時(shí)間:2023-10-09 在線(xiàn)留言詳細摘要: CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機主要由鍍膜腔室(500H430mm),永磁圓形平面靶,真空系統,旋轉加熱基片臺,氣路系統,電氣控制及報警保護系統等組成。
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