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    全自動(dòng)立式氧化/擴散爐

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    品       牌

    廠(chǎng)商性質(zhì)其他

    所  在  地合肥市

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    所在地區:

    聯(lián)系人:張經(jīng)理

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    用途介紹:主要用于半導體集成電路、電力電子(IGBT)、微機械(MEMS)、光伏電池(Photovoltaic)制造等領(lǐng)域,適用6~12英寸工藝尺寸擴散、氧化、工藝。

    詳細介紹

    產(chǎn)品功能:

    擴散/氧化爐是半導體生產(chǎn)重要工藝,擴散是在高溫條件下,利用熱擴散原理將雜質(zhì)元素按要求的深度摻入硅襯底中,

    使其具有特定的濃度分布,達到改變材料的電學(xué)特性,形成半導體器件結構的目的??捎糜谥谱鱌N結或構成集成電路中的

    電阻、電容、二極管和晶體管等器件。氧化是將硅片放置于氧氣或水蒸氣的氛圍中進(jìn)行高溫熱處理,在硅片表面形成氧化膜

    的過(guò)程,可作為離子注入的阻擋層及注入穿透層、表面鈍化、器件結構的介質(zhì)層等。


    設備

    特點(diǎn)

    可滿(mǎn)足閉管干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化工藝

    采用高可靠性工控機+PLC模式,對爐溫、進(jìn)退舟、氣體流量、閥門(mén)進(jìn)行全自動(dòng)控制,實(shí)現全部工藝過(guò)程自動(dòng)化;

    具有友好的人機界面,用戶(hù)可以方便地修改工藝控制參數,并可隨時(shí)顯示各種工藝狀態(tài);

    具有多種工藝管路,可供用戶(hù)方便選擇;

    具有強大的軟件功能,配有故障自診斷軟件,可大大節省維修時(shí)間;

    恒溫區自動(dòng)調整,串級控制,可準確控制反應管的實(shí)際工藝溫度;

    具有超溫、斷偶、熱偶短路、工藝氣體流量偏差報警和保護功能; 

    可根據用戶(hù)要求定制產(chǎn)品。


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