立式線(xiàn)性連續磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn),設備由進(jìn)樣室,濺鍍室,出樣室和基片傳遞機構組成,可實(shí)現連續鍍膜,廣泛應用于顯示器件及光伏電池薄膜的開(kāi)發(fā)及生產(chǎn)。矽基具備豐富的工業(yè)級大尺寸設備生產(chǎn)經(jīng)驗,目前在廣東及北京地區均有線(xiàn)性連續磁控濺射設備銷(xiāo)售實(shí)績(jì)。
技術(shù)參數:
1 本底真空10-7 Torr;
2 基片尺寸:490x390 mm (玻璃基片);
3 基片直立傳送,傳送速度可調節;
4 基片可加熱至400℃;
5 濺鍍室數量可自由拓展;
6 20英寸基片內鍍膜均勻性?xún)?yōu)于 ±3%;