技術(shù)參數：
1 本底真空：10-7 Torr；
2 單基片設計，尺寸可定制；
3 基片可旋轉并加熱：300℃/500℃/800℃；
4 濺射：1-3支磁控濺射靶槍?zhuān)晒矠R射；
5 電子束蒸發(fā)：4-6坩堝
6 熱蒸發(fā)：最多6蒸發(fā)源，包括有機物蒸發(fā)源；
7 可連接手套箱
深圳海創(chuàng )德科技有限公司成立于2012年，由數位理工科博士創(chuàng )辦，團隊成員均為理工科博士和碩士，具有高水平的專(zhuān)業(yè)水準。公司致力于半導體微加工及分析設備的銷(xiāo)售和安裝服務(wù)，產(chǎn)品覆蓋薄膜制備，物性測量和表面分析。經(jīng)營(yíng)的主要產(chǎn)品如下：1. 磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂膠機和熱板等薄膜技術(shù)相關(guān)的設備；2. 美國Kimball Physics的電子槍、離子槍、真空腔體和熒光屏等部件；美國OCI的LEED和AES等各種真空組件；美國MicroXact的真空、低溫和磁場(chǎng)等數種探針臺；3. 我們還提供上述設備的配套部件及耗材，如直流和射頻電源、靶材、探針、光刻膠和ALD耗材等。我們的產(chǎn)品性?xún)r(jià)比高，品質(zhì)精良，性能，在歐美及中國臺灣地區具有的口碑，國內眾多的科研院所和大學(xué)均對我們的產(chǎn)品報以好評。我們期待以?xún)?yōu)質(zhì)的產(chǎn)品，良好的服務(wù)和專(zhuān)業(yè)的技術(shù)為更多的客戶(hù)提供解決方案！期待與您的合作！
x射線(xiàn)熒光分析儀
手動(dòng)鍍膜系統 產(chǎn)品信息
手動(dòng)磁控濺射系統適用于本科生教學(xué)，研究生科研訓練，也可以應用于科研工作。該款設備適用于磁控濺射，也可以裝配電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)源等，用戶(hù)可根據需求來(lái)選擇配備。
