詳細摘要： 低壓化學(xué)氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進(jìn)行薄膜沉積，可進(jìn)行大面積小批量樣品沉積
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詳細摘要： 低壓化學(xué)氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進(jìn)行薄膜沉積，可進(jìn)行大面積小批量樣品沉積
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詳細摘要： 化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應劑在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜的過(guò)程，廣泛應用于金屬、氧化物、氮化...
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