詳細摘要： 為克服器件制造的設備空間限制，矽碁科技開(kāi)發(fā)出適合2英寸晶圓的小型半導體制造平臺-MiniLine，配置靈活，占地面積小，運行成本低
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深圳海創(chuàng )德科技有限公司
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詳細摘要： 為克服器件制造的設備空間限制，矽碁科技開(kāi)發(fā)出適合2英寸晶圓的小型半導體制造平臺-MiniLine，配置靈活，占地面積小，運行成本低
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詳細摘要： 手動(dòng)磁控濺射系統適用于本科生教學(xué)，研究生科研訓練，也可以應用于科研工作
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詳細摘要： 有機發(fā)光二極管(OLED)技術(shù)作為一種新興顯示技術(shù)，具有器件輕薄、可視角度大、柔性顯示、節省電能等優(yōu)勢，已廣泛應用于各個(gè)領(lǐng)域
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詳細摘要： 磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種
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詳細摘要： 矽碁超高真空磁控濺射鍍膜機采用國際UHV配件及金屬密封件，本底真空可達到10-9~10-10Torr量級
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詳細摘要： 多工位磁控濺射鍍膜機可同時(shí)放置多片基片，適應研發(fā)線(xiàn)或中試線(xiàn)的小批量生產(chǎn)
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詳細摘要： 對傳統熱蒸發(fā)技術(shù)難以實(shí)現的材料蒸發(fā)，可采用電子束蒸發(fā)(E-beamEvaporation)的方式來(lái)實(shí)現
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詳細摘要： 立式線(xiàn)性連續磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)，設備由進(jìn)樣室，濺鍍室，出樣室和基片傳遞機構組成，可實(shí)現連續鍍膜，廣泛應用于顯示器件及光伏電池薄膜的開(kāi)發(fā)及生...
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詳細摘要： 利用優(yōu)異保溫效果的坩堝實(shí)現有機物材料的穩定蒸發(fā)，同時(shí)借助超高精度的石英晶振達到蒸發(fā)速率的確控制，矽碁科技可提供性能穩定的有機物蒸發(fā)鍍膜機，主要用于有機物材料驗證...
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詳細摘要： 把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過(guò)對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過(guò)程，稱(chēng)為真空蒸發(fā)鍍膜，簡(jiǎn)稱(chēng)蒸發(fā)鍍膜或蒸鍍
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詳細摘要： 低壓化學(xué)氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進(jìn)行薄膜沉積，可進(jìn)行大面積小批量樣品沉積
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詳細摘要： 化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是指高溫環(huán)境下氣態(tài)反應劑在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜的過(guò)程，廣泛應用于金屬、氧化物、氮化...
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詳細摘要： 電感耦合等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(ICPChemicalVaporDeposition,ICPVD)利用ICP線(xiàn)圈將反應氣體高度離化，是的CVD可以在高溫下...
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詳細摘要： 特殊的腔體設計和工藝設計，可以使得ALD技術(shù)應用于工業(yè)量產(chǎn)，并且可以提高鍍膜效率
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詳細摘要： 熱絲輔助化學(xué)氣相沉積(HotWireAssistedChemicalVaporDeposition,HWCVD)是指在加熱絲輔助的條件下進(jìn)行薄膜化學(xué)氣相沉積，適...
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詳細摘要： 矽碁科技利用PEALD和PECVD各自鍍膜的特點(diǎn)為用戶(hù)開(kāi)發(fā)了PECVDPEALD聯(lián)合鍍膜系統，用于半導體工藝中的薄膜封裝
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詳細摘要： 反應離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過(guò)產(chǎn)生的等離子體對樣品進(jìn)行化學(xué)和物理刻蝕
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詳細摘要： CIGS薄膜太陽(yáng)能電池具有光吸收能力強，發(fā)電穩定性好、轉化效率高，白天發(fā)電時(shí)間長(cháng)、發(fā)電量高、生產(chǎn)成本低以及能源回收周期短等諸多優(yōu)勢，已成為新型太陽(yáng)能電池的熱點(diǎn)發(fā)...
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詳細摘要： 技術(shù)參數：1電子槍能量范圍：5eV~1000eV
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